功耗降低

日本Rapidus公司目标2027年量产2nm工艺，与IBM合作并汲取其2nm技术。相较7nm工艺，2nm可提升45%性能、降低75%功耗。该公司通过与IBM、IMEC等合作，并引进培训人才，力求突破先进半导体技术瓶颈，代表日本半导体业的复兴希望，但仍面临资金和客户支持的挑战。

Intel CEO已强调2026年14A工艺建厂将取决于大客户，但Intel表示已有信心。14A工艺与外部伙伴共同开发，将使用更昂贵、性能更强的High NA EUV光刻机，预计能提升15-35%的性能和降低功耗。Intel晶圆代工团队正努力实现即使无大量外部订单也能盈亏平衡。