Intel 10A工艺最快2028年触及1nm

Intel先进工艺进展迅速,18A将于今年量产,但其市场成功依赖客户订单。Intel的14A工艺面临重大决策,或因缺乏外部客户而停止发展。更先进的10A工艺预计2028-2029年问世,但前景不明,且将触及物理极限,对整个行业是巨大挑战。

Rain科技8月17日消息:英特尔在先进工艺领域取得了显著进展,仅用四年时间就完成了五代工艺的迭代,并计划于今年量产18A工艺。然而,英特尔目前面临的挑战并非仅仅是技术研发本身,更关键的是如何在研发成果转化为市场成功。

对于英特尔而言,先进工艺研发完成后,能否在竞争激烈的代工市场中赢得客户才是决胜负的关键。目前,除了英特尔自家的两款处理器将使用18A工艺外,包括高通、英伟达以及苹果等几家知名厂商都有潜在使用英特尔代工服务的意向。但截至目前,尚未有厂商确认的订单,这使得18A工艺能否从台积电手中分得一杯羹,仍然存在较大的不确定性。

英特尔方面表示,即使没有外部客户的支持,仅凭自身的产品线,18A工艺也能够维持盈利。这得益于18A及其改进版18A-P工艺预计将持续使用至2030年,为英特尔提供了稳定的应用基础。

在18A之后,英特尔的下一代工艺是14A。该工艺将采用下一代High NA EUV光刻机,有望进一步提升晶体管密度,预计将于2027年问世。然而,14A工艺正面临一个关键的“生死抉择”。英特尔CEO帕特·基尔辛格此前曾公开表示,如果找不到足够的外部客户,14A工艺的升级乃至新建晶圆厂的计划都可能受到影响。

再往后是10A工艺,这标志着半导体制造工艺正式逼近我们常说的1纳米大关,是物理极限上的一个重大突破。这项技术将面临巨大的挑战,预计将在2028年或2029年问世。

不过,英特尔对于10A工艺的细节披露相对较少。考虑到14A工艺的未来发展尚不明朗,10A工艺的前景也因此更加扑朔迷离。一旦14A工艺因缺乏外部订单而无法继续推进,那么10A工艺的研发和量产将面临更大的风险。

在10A节点之后,半导体工艺的下一次极限挑战才刚刚拉开帷幕。在这个微观尺度上制造芯片,其难度可谓是“难于上青天”。这不仅仅是对现有芯片结构、半导体材料提出的更高要求,更是对半导体生产设备提出了前所未有的升级需求。即便是行业巨头如台积电、三星等,目前也尚未能公布清晰的下一代工艺路线图,这显示了未来半导体技术发展的巨大不确定性和技术壁垒。

逼近1nm大关 Intel 10A工艺最快2028年面世

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