国产技术
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国产4年前已有4nm专利，突破EUV限制
国内正探索DUV光刻工艺极限，华为早在2021年就发表论文，利用SAQP技术（非四重光刻）实现2nm级工艺，并已申请GAA、CFET等1nm以下关键技术专利。此举旨在突破外部制裁，并可能在芯片竞争力上挑战使用EUV的国际大厂。
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我国自研视频大模型全球上线
记者8月3日获悉，亮相2024中关村论坛年会的人工智能视频大模型Vidu日前宣布在全球正式上线。Vidu开放文生视频、图生视频两大核心功能，提供4秒和8秒两种时长选择，分辨率最高达…
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国产
Rain科技8月1日消息，日前，生数科技联合清华大学打造的 Vidu 视频大模型正式在全球上线（www.vidu.studio），这也是首个国产纯自研视频大模型。 据了解，Vidu…
