黄仁勋承认Blackwell GPU重大缺陷已解决

Rain科技10月25日消息,英伟达(NVIDIA)今年3月份发布了新一代高性能GPU Blackwell架构,8月份宣布流片成功并开始大规模量产,目前已进入批量交付阶段。

黄仁勋承认Blackwell GPU存在重大缺陷!已完美解决

然而,年中曾有传闻称Blackwell GPU存在架构设计问题,导致量产交付延误。对此,英伟达一直未予以正面回应。近日,黄仁勋在接受采访时终于确认了这一消息:Blackwell GPU确实存在设计上的重大缺陷,虽然不影响GPU的正常功能,但却导致良品率极低。

黄仁勋表示,为了解决这一缺陷,英伟达重新设计了多达7颗芯片。他强调,这完全是英伟达自身的设计问题,与台积电的工艺和制造无关。事实上,正是台积电的协助,才使得英伟达能够以惊人的速度克服量产难题,迅速恢复生产。

这一事件凸显了高端芯片设计领域的复杂性与挑战性。Blackwell架构虽然性能强劲,但在实际量产过程中却遭遇了意想不到的困难。这提醒我们,即使是业界领先的企业,也可能面临设计缺陷的困扰。而英伟达最终能够迅速解决问题,也与其强大的研发实力和与台积电的紧密合作密不可分。这同时体现了在高科技领域,技术迭代速度与风险控制能力同样重要。

值得注意的是,黄仁勋明确表示,这一缺陷不会影响基于Blackwell架构的游戏显卡GPU,也就是RTX 50系列产品(包括桌面和移动版)。

黄仁勋承认Blackwell GPU存在重大缺陷!已完美解决

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