#Intel 18A
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Intel 18A首发High NA EUV领先台积电4年
Rain科技7月17日消息,日前ASML在财报会议上出乎意料地宣布了一个好消息——Intel的18A工艺已经率先量产了High NA EUV光刻工艺,这还是该技术的全球首次。 In…
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Intel’s Arizona Fab: A Glimpse as EUV Lithography Looms
In August 2023, Wen Q had the opportunity to represent Kuaikeji, as one of only four Chine…
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Intel 14A 工艺信心十足,聚焦功耗降低 35% 汲取 18A 教训
Intel CEO已强调2026年14A工艺建厂将取决于大客户,但Intel表示已有信心。14A工艺与外部伙伴共同开发,将使用更昂贵、性能更强的High NA EUV光刻机,预计能提升15-35%的性能和降低功耗。Intel晶圆代工团队正努力实现即使无大量外部订单也能盈亏平衡。
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x86最强基座开放:Intel 18A工艺可代工ARM芯片
Intel将在2025年量产18A工艺,并开始代工ARM芯片。此次展示的ARM芯片已具备相当的成熟度,能满足多种任务需求。Intel旨在通过开放其领先的制造工艺,吸引高通、苹果等厂商,提供除台积电外的选择。尽管前景看好,但成本及供应能力仍是未知数。
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Intel:18A工艺缺陷率低,潜在客户排队
Rain科技9月8日消息,英特尔日前宣布,18A 工艺(等效于 1.8 纳米)进展顺利且超过预期,Arrow Lake 处理器 20A 工艺(等效于 2 纳米)版本因此取消,改为外…