英特尔无缘iPhone芯片代工:行业内幕揭秘

近期有传闻称苹果将与英特尔合作,由英特尔代工其部分M系列处理器和非Pro版iPhone芯片,并计划采用英特尔18A-P工艺。然而,行业人士认为英特尔极不可能代工iPhone芯片,主要原因是其18A工艺全面押注BSPD(背面供电)技术。该技术虽能提升性能,但会带来严重的自发热效应,不适合对散热有严格要求的移动芯片,因此短期内英特尔难以获得iPhone芯片代工订单。

近日,关于苹果英特尔可能达成的合作传闻引发了业界的广泛关注。据了解,有证券机构披露,苹果或将委托英特尔代工部分M系列处理器,以及非Pro版本的iPhone芯片。预计最早将在2027年出货的低端M系列芯片,以及2028年发布的iPhone标准版芯片,可能将采用英特尔的18A-P工艺。

有报道指出,苹果公司已与英特尔签署了保密协议,并已开始评估英特尔先进的18A-P工艺,通过获取其工艺设计套件(PDK)样本进行产品评估。英特尔18A-P工艺的一大亮点在于其采用了Foveros Direct 3D混合键合技术,该技术能够通过TSV(硅通孔)技术实现多个小芯片的垂直堆叠,这是英特尔在先进封装领域的重要布局。

然而,对于英特尔能够代工iPhone芯片的说法,部分行业人士持谨慎甚至否定的态度。他们认为,关键的制约因素在于BSPD(背面供电)技术。台积电在部分工艺节点上灵活采用BSPD技术,以构建丰富的产品组合,而英特尔则在其最新的18A和14A工艺上全面押注BSPD。

BSPD技术确实能带来性能上的提升,其原理是利用更短、更粗的金属路径为芯片供电,从而降低电压降,支持更高、更稳定的工作频率。但对于功耗和散热要求极高的移动设备芯片而言,这种性能增益可能并不显著。更令人担忧的是,BSPD技术可能会加剧芯片的自发热效应,从而需要额外的散热措施。

这是因为,在多数移动设备内部有限的空间内,尤其是散热结构设计相对局限的情况下,垂直散热效果不佳,而横向散热也面临挑战。在依赖空气散热或对温度有严格限制的应用场景下,这种方案的实现难度极大。因此,行业人士普遍认为,基于BSPD技术带来的散热挑战,英特尔在短期内很难获得iPhone芯片的代工订单。不过,对于M系列处理器而言,由于其通常拥有更大的散热空间,与英特尔在部分产品上进行合作的可能性依然存在,但具体能否实现仍有待观察。

英特尔代工iPhone芯片没戏了!行业人士揭开背后原因

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