Rain科技8月3日消息，据新华网报道，修订后的《集成电路布图设计保护条例》的正式公布，将于2026年10月15日起施行。
现行条例于2001年公布施行，旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展。二十余年来，该条例在维护创新者权益、规范市场竞争方面发挥了基础性作用。但随着集成电路设计和制造工艺的快速迭代，布图设计的复杂程度和商业价值显著提升，原有规则在申请程序、权利保护力度以及运用机制等方面逐渐显现出滞后性。
例如，实践中出现了利用制度漏洞进行虚假申请、滥用权利妨碍竞争等现象，同时布图设计的跨境合作与转让需求也日益增长。因此，对现行条例进行修订成为产业发展的迫切需求。修订后的条例在总体要求、申请审查程序、专有权保护以及布图设计运用四个维度进行了系统优化，旨在构建更加适应集成电路产业特点的知识产权保护体系。从国际视角看，此次修订也进一步与《与贸易有关的知识产权协定》（TRIPS）等国际规则相衔接，有助于提升我国集成电路产业在全球竞争中的制度保障水平。
一是明确总体要求。规定集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，扩展保护范围，强调诚实信用。这一调整意味着布图设计不仅要保护传统意义上的布局结构，对创新程度更高的衍生设计也提供了更清晰的保护依据，同时强化了权利行使过程中的诚信义务，减少恶意诉讼和滥用权利的可能。
二是完善申请、审查程序。规制虚假申请，细化材料要求，完善驳回、撤销程序，增加权利恢复程序。例如，对申请文件中的图纸、数据等材料提出更具体的技术描述要求，降低审查中的主观分歧；新增的权利恢复程序则为因不可抗力等正当理由错过期限的申请人提供了补救渠道，体现了制度的人性化设计。
三是加强专有权保护。明确权利范围界定标准，加大侵权赔偿力度。修订后的条例进一步细化了布图设计专有权的边界，比如区分独立创作与实质性相似，并提高了法定赔偿上限，引入惩罚性赔偿条款。这有助于遏制恶意侵权行为，提升侵权成本，从而激励更多企业投入集成电路研发。
四是促进布图设计运用。加强公共服务，明确奖酬措施，完善转让、许可、出质要求，规范共有人权利行使。例如，条例鼓励建立布图设计公共信息平台，降低中小企业获取技术信息的门槛；同时明确职务创作中设计人员的奖酬比例，调动创新积极性。这些措施将有效推动布图设计从“纸面专利”向实际生产力转化。
