#极紫外光刻

Rain科技 4 月 15 日消息，受益于人工智能芯片及存储芯片市场的强劲需求，全球光刻机巨头 ASML 近日发布了令人瞩目的一季度财报。数据显示，其第一季度营收达到 88 亿欧元…

Intel即将推出的Panther Lake处理器将采用18A工艺，这是其包含RibbonFET和PowerVia技术的新一代工艺。 为支持18A及未来14A工艺，Intel斥巨资购置至少6-7台售价高达28亿元的High NA EUV光刻机，并已投入巨量晶圆生产，此举或为抢占技术先机，打对手措手不及。

美国商务部向EUV技术初创公司xLight投资1.5亿美元。xLight开发基于自由电子激光器的EUV光刻系统，原型2028年问世。其光源功率可达1000W，是ASML现有EUV光刻机的4倍，有望大幅提高芯片生产效率并降低成本，旨在重塑美国在下一代半导体技术领域的领导地位。

Rain科技6月29日消息，全球领先的半导体设备制造商ASML（阿斯麦）已启动下一代Hyper NA EUV（极紫外光）先进光刻机的研发工作，旨在为未来十年的芯片产业发展奠定基础。…