Rain科技 4 月 15 日消息，受益于人工智能芯片及存储芯片市场的强劲需求，全球光刻机巨头 ASML 近日发布了令人瞩目的一季度财报。数据显示，其第一季度营收达到 88 亿欧元，毛利率高达 53%，展现出公司在高端半导体设备领域的垄断性优势。
从客户地域分布来看，ASML 的主要收入来源集中在三个关键地区——韩国、中国大陆及中国台湾。值得注意的是，韩国地区的占比此次大幅提升到了 45%，这一显著变化主要受内存和闪存芯片价格上涨的刺激，三星电子与 SK 海力士为了争夺 AI 存储市场主导权，大幅增加了资本开支。
中国大陆市场的占比为 19%，环比下降了 17 个百分点，不再是第一大客户；中国台湾地区的公司占比则为 23%，环比增加了 10 个百分点，这表明台积电等代工巨头正在逆势提升产能，以应对先进制程订单的增长。
针对大陆公司采购光刻机数量下滑的现象，业内分析认为有多方面原因。一方面，此前两年国内厂商曾有提前囤货的行为，目前正处于库存消化回归正常的阶段；另一方面，也不排除国产光刻机技术进度逐步推进，部分中低端需求开始尝试本土替代的可能性。这种结构性变化反映了全球半导体供应链在地缘政治影响下的重新平衡。
EUV 光刻机依旧是 ASML 的营收主力，贡献了当季度 66% 的收入。据统计，去年 ASML 出货了 48 台 EUV 光刻机，今年预计超过 60 台，明年则有望突破 80 台。这一增长动力的核心依然来自存储芯片需求的爆发，意味着韩国明年的营收占比还会进一步提高。据悉，SK 海力士在未来两年就计划安装 20 台 EUV 光刻机，以扩充其 HBM 产能。
在 ASML 交付的 EUV 光刻机中，当前一代的 Low NA EUV 仍占多数，明年交付量预计超过 56 台。其中，英特尔购买 5 台，三星 7 台，而 SK 海力士多达 20 台，显示出存储厂商在先进制程设备采购上的激进态度。
不过，从明年开始交付的超级 EUV，也就是 High NA EUV 光刻机数量会显著增多。数值孔径 NA 0.55 的 EUV 相比当前 NA 0.33 的光刻机分辨率更高，是实现 2nm 以下先进工艺不可或缺的核心设备，代表了半导体制造的最前沿技术水平。
这种超级 EUV 光刻机售价高达 3.8 亿美元，约合 26 亿元，差不多是当前 EUV 光刻机的 2 倍左右。高昂的成本意味着只有少数头部厂商能够负担得起，这可能会进一步加剧半导体行业的马太效应。
明年 ASML 预计能交付 10 台 High NA EUV 光刻机，其中 SK 海力士有 2 台用于内存生产，而主要客户还是英特尔。英特尔计划将这种 EUV 光刻机用于下一代的 14A 工艺生产（也就是等效于 1.4nm 工艺），这是当前 18A 工艺的继任者，也是英特尔赖以招揽苹果、高通、英伟达等公司代工合作的关键筹码。业界观察认为，英特尔此举意在通过设备优势换取制程竞争力的时间窗口，但高昂的设备折旧也将对其成本控制提出巨大挑战。
