#EUV光刻机

Rain科技 4 月 15 日消息，受益于人工智能芯片及存储芯片市场的强劲需求，全球光刻机巨头 ASML 近日发布了令人瞩目的一季度财报。数据显示，其第一季度营收达到 88 亿欧元…

AI算力需求巨大，已从GPU、存储芯片转向制造设备。ASML的光刻机产能有限，预计2030年仅能生产100台，这将成为限制全球AI算力增长的瓶颈，堪比过去GPU和内存的供应限制。

Intel即将推出的Panther Lake处理器将采用18A工艺，这是其包含RibbonFET和PowerVia技术的新一代工艺。 为支持18A及未来14A工艺，Intel斥巨资购置至少6-7台售价高达28亿元的High NA EUV光刻机，并已投入巨量晶圆生产，此举或为抢占技术先机，打对手措手不及。

Intel 18A工艺是其四年五代工艺的关键，有望超越3nm，引入RibbonFET和PowerVia两大创新。位于亚利桑那州的Fab 52厂已部署四台EUV光刻机，月产能达4万片晶圆。18A工艺的两款产品Panter Lake和Clearwater Forest明年上市，但初期良率爬坡，预计2027年初达理想状态，新品定位或偏高端。

美国商务部向EUV技术初创公司xLight投资1.5亿美元。xLight开发基于自由电子激光器的EUV光刻系统，原型2028年问世。其光源功率可达1000W，是ASML现有EUV光刻机的4倍，有望大幅提高芯片生产效率并降低成本，旨在重塑美国在下一代半导体技术领域的领导地位。

As advanced chip manufacturing increasingly relies on Extreme Ultraviolet (EUV) lithograph…

On October 13th， local time， a significant announcement from Shenzhen officials has indica…

ASML凭借与台积电、三星、英特尔的合作与投资，成为EUV光刻机唯一供应商。其最大竞争对手并非其他设备商，而是全球经济的不确定性，特别是源于美国关税政策可能抑制技术投资和芯片需求，影响整个半导体行业。

According to a report from Kuai Keji on September 3rd， the renowned American investment ba…