#光刻机

Rain科技 4 月 15 日消息，受益于人工智能芯片及存储芯片市场的强劲需求，全球光刻机巨头 ASML 近日发布了令人瞩目的一季度财报。数据显示，其第一季度营收达到 88 亿欧元…

AI算力需求巨大，已从GPU、存储芯片转向制造设备。ASML的光刻机产能有限，预计2030年仅能生产100台，这将成为限制全球AI算力增长的瓶颈，堪比过去GPU和内存的供应限制。

美国商务部向EUV技术初创公司xLight投资1.5亿美元。xLight开发基于自由电子激光器的EUV光刻系统，原型2028年问世。其光源功率可达1000W，是ASML现有EUV光刻机的4倍，有望大幅提高芯片生产效率并降低成本，旨在重塑美国在下一代半导体技术领域的领导地位。

As advanced chip manufacturing increasingly relies on Extreme Ultraviolet (EUV) lithograph…

AI News10月22日报道，ASML (阿斯麦) 公司日前宣布，已成功向客户交付了其首台专为先进封装应用设计的“TWINSCAN XT:260”光刻机。这款革命性的设备在3D芯…

On October 13th， local time， a significant announcement from Shenzhen officials has indica…

In August 2023， Wen Q had the opportunity to represent Kuaikeji， as one of only four Chine…

ASML凭借与台积电、三星、英特尔的合作与投资，成为EUV光刻机唯一供应商。其最大竞争对手并非其他设备商，而是全球经济的不确定性，特别是源于美国关税政策可能抑制技术投资和芯片需求，影响整个半导体行业。

According to a report from Kuai Keji on September 3rd， the renowned American investment ba…

Rain科技6月29日消息，全球领先的半导体设备制造商ASML（阿斯麦）已启动下一代Hyper NA EUV（极紫外光）先进光刻机的研发工作，旨在为未来十年的芯片产业发展奠定基础。…